反滲透膜的清洗方法

               
   　
　　系統的段間壓差：一段壓差≤0.2Mpa；二段壓差≤0.1Mpa。

　　在系統運行參數不變的情況下，通過溫度校正系統的產水量恢復設計產水量的85%以上。

　　產水脫鹽率變化不超過5%

　　污染情況分析     碳酸鈣垢：    碳酸鈣垢是一種礦物結垢。當阻垢劑/分散劑添加系統出現故障時，或是加酸pH調節系統出故障而引起給水pH增高時，碳酸鈣垢有可能沉積出來。盡早地檢測碳酸鈣垢，對于防止膜層表面沉積的晶體損傷膜元件是極為必要的。早期檢測出的碳酸鈣垢可由降低給水的pH值至3~5，運行1~2小時的方法去除。對于沉積時間長的碳酸鈣垢，可用低pH值的檸檬酸溶液清洗去除。    硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢：     硫酸鹽垢是比碳酸鈣垢硬很多的礦物質垢，且不易去除。硫酸鹽垢可在阻垢劑/分散劑添加系統出現故障或加硫酸調節pH時沉積出來。海德能公司認為盡早地檢測硫酸鹽垢對于防止膜層表面沉積的晶體損傷膜元件是極為必要的。硫酸鋇和硫酸鍶垢較難去除，因為它們幾乎在所有的清洗溶液中難以溶解，所以，應加以特別的注意以防止此類結垢的生成。     金屬氧化物/氫氧化物污染：     典型的金屬氧化物和金屬氫氧化物污染為鐵、鋅、錳、銅、鋁等。這種垢的形成導因可能是裝置管路、容器（罐/槽）的腐蝕產物，或是

　　空氣中氧化的金屬離子、氯、臭氧、鉀、高錳酸鹽，或是由在預處理過濾系統中使用鐵或鋁助凝劑所致。    聚合硅垢：     硅凝膠層垢由溶解性硅的過飽和態及聚合物所致，且非常難以去除。需要注意的是，這種硅的污染不同于硅膠體物的污染。硅膠體物污染可能是由與金屬氫氧化物締合或是與有機物締合而造成的。硅垢的去除很艱難，可采用傳統的化學清洗方法。如果傳統的方法不能解決這種垢的去除問題，請與海德能公司技術部門聯系。現有的化學清洗藥劑，如氟化氫銨，已在一些項目上得到了成功的使用，但使用時須考慮此方法的操作危害和對設備的損壞，加以防護措施。    膠體污染：     膠體是懸浮在水中的無機物或是有機與無機混合物的顆粒，它不會由于自身重力而沉淀。膠體物通常含有以下一個或多個主要組份，如：鐵、鋁、硅、硫或有機物。    非溶性的天然有機物污染（NOM）：     非溶性天然有機物污染（NOM--Natural Organic Matter）通常是由地表水或深井水中的營養物的分解而導致的。有機污染的化學機理很復雜，主要的有機組份或是腐植酸，或是灰黃霉酸。非溶性NOM被吸附到膜表面可造成RO膜元件的快速污染，一旦吸收作用產生，漸漸地結成凝膠或塊狀的污染過程就會開始。    微生物沉積：     有機沉積物是由細菌粘泥、真菌、霉菌等生成的，這種污染物較難去除，尤其是在給水通路被完全堵塞的情況下。給水通路堵塞會使清潔的進水難以充分均勻的進入膜元件內。為抑制這種沉積物的進一步生長，重要的是不僅要清潔和維護RO系統，同時還要清潔預處理、管道及端頭等。對膜元件采用氧化性殺菌時，請與海德能公司技術支持部門聯系，使用認可的殺菌劑。  3 清洗液的選擇和使用     選擇適宜的化學清洗藥劑及合理的清洗方案涉及許多因素。首先要與海德能公司的服務人員取得聯系，確定主要的污染物，選擇合適的

　　化學清洗藥劑。有時針對某種特殊的污染物或污染狀況，要使用RO藥劑制造商的專用化學清洗藥劑，并且在應用時要遵循藥劑供應商提供的產品性能及使用說明。有的時候可針對具體情況，從反滲透裝置取出已發生污染的單支膜元件進行測試和清洗試驗，以確定合適的化學藥劑和清洗方案。     為達到最佳的清洗效果，有時會使用一些不同的化學清洗藥劑進行組合清洗。     典型的程序是先在低pH值范圍的情況下進行清洗，去除礦物質垢污染物，然后再進行高pH值清洗，去除有機物。有些清洗溶液中加入了洗滌劑以幫助去除嚴重的生物和有機碎片垢物，同時，可用其它藥劑如EDTA螯合物來輔助去除膠體、有機物、微生物及硫酸鹽垢。    需要慎重考慮的是如果選擇了不適當的化學清洗方法和藥劑，污染情況會更加惡化。

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　　清洗液選配

　　配制100加侖（379升）溶液時的加入量   pH節

　　1 檸檬酸     17.0 磅 （ 7.7 kg ）        用氨水調節pH至3.0

　　2 EDTA）  17.0 磅 （ 7.7 ）         用硫酸調節pH至10.0

　　3     三聚磷酸鈉    17.0 磅 （ 7.7 ）

　　十二烷基苯磺酸鈉                         用硫酸調節pH至10.0